高性能光刻胶
提供高精度印刷的全面方案
高解析力
一站式提供高精度印刷解决方案，兼具高解析力、卓越耐印性、多油墨适配性与网板易再生四大核心优势。依托精准配方设计，实现感光度、分辨率、耐印性的最优平衡，全面满足环保生产多元需求。
卓越耐印
适用多种油墨
网板易再生
优良耐水性
成膜后分子结构致密，可有效阻隔水分子渗透侵蚀，稳定兼容水性油墨印刷工艺，膜层遇水不溶胀、不软化、附着力不衰减。
超凡的细节再现能力
优化聚合物乳液与光敏剂分散体系，曝光后可形成高密度精细线路，线条边缘垂直锐利无毛刺锯齿，完美适配PCB高密度互连（HDI）线路制作。
强大耐溶剂性
具备优异化学稳定性，可耐受多种有机溶剂侵蚀，完美适配溶剂型油墨印刷工艺，接触溶剂后膜层形态与功能始终稳定。
稳定三维成型能力
厚膜型乳剂支持一次常规涂布，达成常规乳剂数次涂布效果，成型结构平直锐利，兼具高耐磨性与长使用寿命。
广泛基材附着性与应用可靠性
特制聚合物乳液配方，对金属、玻璃、陶瓷等多类基材均有良好附着力，固化后可保障终端应用的长期稳定性。
卓越工艺宽容度与易用性
采用精准预调配技术，开盖即用无需额外添加光敏剂，简化工艺流程；全系列产品具备宽泛工艺窗口，适配多元生产场景。
感光乳剂和光刻胶
Photo Emulsion and Photoresists
通过精准的化学配方设计，我们在感光度、分辨率、耐性及操作便捷性之间取得最佳平衡，满足从实验室创新到大规模工业制造的多元需求。
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